BAO Mask Avenger最新版是很容易操作且使用范围很广泛的AE高级遮罩脚本，BAO Mask Avenger电脑版可以直接在AE中控制和编辑Mask路径和遮罩的顶点，同时在三维空间做路径动画。BAO Mask Avenger软件可以控制Mask(遮罩)的顶点及切线，还可以为顶点添加3D模式(Z轴)，对顶点添加表达式控制。

软件特色

      拉姆预览保护。以前版本的最大问题是Ram预览无效

      通过插件。 Mask Avenger 2.0新的烘焙系统避免了这一点。

      3D面具。 BAO Mask Avenger最新版现在可以在3D中控制蒙版，而无需使用空图层和表达式。

      然后更快地计算掩模，并简化表达式写入。

      背景烘焙。当需要修改蒙版时，蒙版复仇者会立即对其进行转换

      当前时间，并在后台烘烤工作区域的其余部分。这意味着您可以继续工作

      而面具复仇者正在忙着烘焙。这取代了«Dynamic»和«bake»模式。

      更好地塑造层兼容性。与“动态”模式相关的错误随着新烘焙而消失系统。

      工作区和图层的持续时间不再影响Mask Avenger的计算速度。当然，

      烘焙100,000个关键帧需要超过10个，但新的烘焙系统允许您继续工作

      而它正在烘烤。

      不再需要Mask Renderer。 Mask Avenger现在使用AE自己的掩蔽功能，运行速度更快。

      面具预览。 Mask avenger 2.0有一个预览系统，可以动态地显示它们之前的变化

      适用于面具。这可以避免在表达式，其他图层或相机修改蒙版时出现延迟。

控制说明

      关键帧，缓动，表达式和3D空间。

      您可以选择仅使用顶点或完全控制切线。

      集成脚本将帮助您使用表达式并将掩码点链接到Null图层。

      通过简单的拾取 - 鞭子表达式将掩码顶点链接到跟踪器点。

      使用“冻结”模式与没有Mask Avenger的用户共享您的项目。

      智能插补模式：基于重心的体积守恒或独立的可关键点锚点。

      与“自由变换”蒙版工具集成。

      Mask Reader：读取遮罩路径上任意点的位置和方向数据。

      Shape Avenger：使用Mask Avenger来塑造图层。

      Mask Avenger是一个原生的After Effects插件。